高性能な粉末活性炭により、ppbレベルの化学物質を効率よく吸着
ハニカム構造ケミカルフィルター
微量なガス状汚染物質の管理が求められるクリーン環境に適したケミカルフィルターです。高い吸着性能と低圧力損失を両立し、半導体製造装置やクリーンルームなどでの使用に対応します。
仕様・構造
フィルター方式
ハニカム構造
低発塵
参考用途
FFU用
装置用
クリーンルーム
ドラフトチャンバー・粉末活性炭を基材としたシートをハニカム構造に成形したケミカルフィルターです。
高吸着力と低圧力損失を両立し、長期使用でも安定した性能を維持します。
高性能粉末活性炭により、空気中のppbレベルのケミカルコンタミネーションを効率的に吸着除去。
半導体装置やクリーンルームでの発塵抑制に適し、整流された層流で安定した気流を供給できます。
有機ガス、酸性ガス、アルカリ性ガスなど、除去対象に応じたメディアをラインナップしています。対象ガスや使用環境に合わせて適切な仕様を選定します。
| 名称 | 主な除去対象ガス |
|---|---|
| PureACT-K | トルエン・環状シロキサン等の有機ガス |
| PureACT-H | 塩酸、硝酸、二酸化硫黄、硫化水素等の酸性ガス、ボロン |
| PureACT-N | アンモニア、（モノ・ジメチル・トリメチル）アミン等のアルカリ性ガス |
ハニカムメディアを不織布やラス網で保護し、フレームに固定した構造です。使用環境や設備条件に応じたサイズ・仕様で製作できます。
■フィルターの構造
フィルターは、両面を不織布とラス網で保護され、アルミフレームを使用しています。
■ハニカム拡大図
ハニカム構造により乱れた気流を整え、安定した気流を形成します。
PureACTに関して、よくお問い合わせいただく内容をまとめています。
硫化水素、アンモニア、酸性ガス、VOCなど、さまざまなガスに対応しています。対象物質が分からない場合でも、使用場所やお困りの内容をお聞かせください。半導体・電子デバイス、各種製造工場、データセンター、美術館・博物館など、使用環境を確認しながら適した薬剤や製品をご提案します。
交換時期は、対象ガスの種類・濃度、処理風量、薬剤量、運転時間、温湿度などによって異なるため、一律の期間で決めることはできません。導入前は使用条件や周辺環境のガス濃度などをもとに交換時期の目安を検討し、使用後は薬剤の消耗度を測定することで、交換時期や運用条件の見直しに活用できます。
SDSは対象製品・薬剤に応じてご案内します。使用済みの薬剤やフィルターは、吸着した物質や使用環境によって廃棄方法が異なる場合があります。廃棄方法については、関係法令や処理業者の受入条件をご確認ください。必要な製品情報はお問い合わせいただけます。
